三星2nm工艺良品率持续提升 目前已超过40%

此前有报道称,三星在2nm(SF2)工艺的测试生产中实现了高于预期的初始良品率,达到30%以上。三星计划在2025年第四季度量产2nm工艺,为Exynos 2600的大规模生产做好准备。

近日三星2nm工艺开发团队取得了令人满意的实验性生产里程碑,开发当中的2nm工艺在良品率方面的表现比之前的3nm工艺要更好,2nm工艺的良品率已经提升到40%以上。按照目前的推进速度,有可能刚好赶上Exynos 2600的量产。

虽然三星在2nm工艺上有了不错的进展,但是这种表现并不足够令人满意。竞争对手台积电(TSMC)在去年12月对2nm工艺的试产当中,良品率就已超过60%,传闻现在已提升至70%至80%,接近于量产的水平。

SF2集成了三星第三代GAA(Gate-All-Around)架构晶体管技术,相比于SF3(3nm),性能提高了12%,功率效率提高了25%,芯片面积减少了5%。三星还打算在2nm制程节点上引入“BSPDN(背面供电网络)”技术,将电源轨置于晶圆的背面,以消除电源线和信号线之间的瓶颈,解决FSPDN(前端供电网络)造成的前端布线堵塞问题,进一步提升性能和能效,并缩小芯片面积。

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